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悬空微结构相关论文

用氧化多孔硅作牺牲层制备悬空微结构

提出一种新的牺牲层工艺.先将阳极氧化生成的多孔硅在 300℃的氮气氛下进行退火以稳定其多孔结构,然后将其在 700℃下氧化成为具有......

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氧化多孔硅牺牲层制备悬空微结构阳极氧化硅微机械加工技术微型传感器 oxidized porous silicon sacrificial layer

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