在室温下,采用射频溅射法,在玻璃衬底和沉积了一层SiO2缓冲层的玻璃衬底上,用Al2O3:ZnO(Al2O3含量为2％wt)为靶材,制备了Al:ZnO(AZO)......

用射频溅射方法制备ＣｄＴｅ薄膜及掺杂某些稀土元素的ＣｄＴｅ薄膜，利用ＸＲＤ，紫外－可见分光光度计和霍尔系数测量研究了基片温度及稀土元素掺杂对薄膜结构......

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采用射频磁控溅射法沉积了CN薄膜, 利用XPS, XRD, FTIR等测试手段研究了CN薄膜的成分和结构.结果表明: CN薄膜为非晶结构; CN薄膜......