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随着科技不断发展,常用的单晶硅已不能满足其需求。单晶碳化硅材料以其禁带宽度大、热导率高、临界击穿电场高和化学稳定性好等特......
近年来,随着集成电路、LED照明以及光电子产品的蓬勃发展,以单晶硅、蓝宝石基片、光学玻璃等为代表的超光滑平面元件的需求日益剧......
目的研发一种高效、高质量氧化锆陶瓷超光滑表面加工技术。方法采用大抛光模磁流变抛光方式加工氧化锆陶瓷,利用自主研发的磁流变......
近年来,随着信息电子技术、光电技术及半导体照明技术的迅速发展,超光滑平面元器件需求越来越大,这些表面要求达到亚纳米级表面粗......
目的研发一种高精高效单晶碳化硅表面抛光技术。方法采用电磁场励磁的大抛光模磁流变抛光方法加工单晶碳化硅,利用自制的电磁铁励......
