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氧等离子体硫化法制作可变形聚二甲基硅氧烷薄膜培养基底
发展了氧等离子体硫化法制作可变形聚二甲基硅氧烷薄膜培养基底的技术.与传统的 加热硫化法相比,该法制作的基底表面具有亲水性,细......
期刊
氧等离子体
硫化法
聚二甲基硅氧烷
可变形基底
细胞松弛素D
亲水性
Oxygen plasma Polydimethylsiloxane Deformable
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