为了研究Al和V掺杂对TiN薄膜微结构的影响，用磁控溅射法在AISI M2高速钢上沉积TiN、TiAlN和TiAlVN薄膜。采用XRD、SEM和TEM对薄膜的......

利用反应磁控溅射技术,通过调节N2流速在单晶硅（n-110）表面制备了不同N含量的氮化铝钛钒（TiAlVN）薄膜。利用扫描电子显微镜（SEM）、纳米压......