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为了研究Al和V掺杂对TiN薄膜微结构的影响，用磁控溅射法在AISI M2高速钢上沉积TiN、TiAlN和TiAlVN薄膜。采用XRD、SEM和TEM对薄膜的显微结构进行表征。结果表明，TiN薄膜中掺杂Al引起了晶格常数的降低，TiAlN中掺杂V则导致晶格常数的增加。另外，TiN、TiAlN和TiAlVN薄膜的生长形态显示，添加Al和V有改善柱状结构的倾向。在TiN、TiAlN和TiAlVN薄膜中鉴定出(111)和(200)晶向，ε(Fe3N-Fe2N)相的存在是因为薄膜中存在少量的Fe。TiAlN和TiAlVN薄膜夹层具有(0110)择优取向。在TiAlN和TiAlVN薄膜中观察到(111)和(200)晶向的织构(柱状)结构，在TiAlVN/M2夹层和回火马氏体之间存在(0110)α-Ti//(110)T.M的位向关系。