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Prolith9.0相关论文
浸没式ArF光刻系统中光学因素对L形图形的影响
利用Prolith 9.0软件计算了浸没式ArF光刻中杂散光、光线偏振态和几何像差对目标线宽为65 nm的L形图形成像质量和光刻性能的影响,......
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杂散光
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像差
浸没式光刻
Prolith9.0
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polarization
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immersion lithography
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