KTN薄膜相关论文
KTa_(1-x)Nb_xO_3(简称KTN)固溶体具有良好的电光特性、非线性光学特性和热释电特性,KTN薄膜在光电子集成电路中有着良好的应用前......
根据流体力学理论 ,对脉冲激光沉积KTN薄膜的动力学过程进行了模拟 ,讨论了激光沉积的KTN薄膜厚度分布随基片位置的变化规律 .结果......
该文系统地研究了KTN/P-Si(100)薄膜的PLD(脉冲激光沉积)制备技术,根据实验详细地讨论了各工艺因素对薄膜结构和性能的影响,得到了......
该文的主要理论研究内容如下.首先,该文对靶材采用块靶模型,研究了脉冲激光烧蚀作用产生的烧蚀面的运动以及固液相界面的运动规律,......
研究了用溶胶 -凝胶 ( Sol- Gel)法在不同基片和底电极上制备 KTN薄膜的结构 ,发现基片和底电极的结构及化学稳定性直接影响到 KTN......
根据能量平衡原理 ,导出了脉冲激光作用靶材的烧蚀率公式 ,并根据流体动力学理论 ,得出了脉冲激光产生的等离子体的空间运动特性方......
给出脉冲激光作用块状靶材的烧蚀模型 .根据能量平衡原理 ,导出烧蚀面的位置随时间的变化关系 .利用绝热近似、温度连续性条件和能......
利用有限差分法对脉冲激光沉积(PLD)技术制备KTa0.65Nb0.35O3(KTN)薄膜过程中等离子体在等温和绝热两个阶段的速度演化进行了模拟,......
Sol-Gel法制备KTN多晶粉末,在富氧气氛下烧结富钾KTN陶瓷,代替KTN 单晶作为靶材,用PLD技术在透明石英单晶(100)基片上制备高取向透......
用Sol-Gel法自制了KTN陶瓷,以之为靶材,首次在单晶硅上用PLD技术沉积了KTN薄膜。......
根据流体力学理论,对脉冲激光沉积KTN薄膜的动力学过程地模拟,讨论了激光沉积的KTN薄膜厚度分布随基片位置的变化规律,结果表明,等离子体在膨......
用PLD技术结合后期退火,在透明石英单晶(100)上制备了高取向的纯钙钛矿相KTN薄膜.对薄膜的光学、电学性能分析表明,薄膜铁电居里温......
在Pt/Ti/SiO2/Si基片上采用Sol-Gel法制备了五组分成分梯度分布的KTa1-xNbxO3(x=0.55,0.525,0.50,0.425,040)热释电薄膜.测试结果......
在建立脉冲激光沉积综合统一理论模型的基础上,进一步研究了制备KTa0.65Nb0.35O3(KTN)薄膜过程中等离子体的空间演化规律.用有限差......
以TaCl5和NbCl5为原料制备了乙醇钽和乙醇铌,对溶胶-凝胶法制备KTa1-xNbxO3薄膜的工艺过程、影响因素进行了研究,提出了优化的制备工......