利用电喷雾电离质谱及串联质谱(ESI-MS/MS), 研究Fmoc保护氨基酸在正离子模式下质谱裂解规律. 正离子二级质谱实验中观察到C端羟基......

为获得高药效甘草次酸衍生物,以甘草次酸为原料,经过克莱门森还原得到11-脱氧甘草次酸,所得产物经溴乙烷乙酯化制得11-脱氧甘草次......

以甘草次酸（1）为原料,将其11位羰基还原、30位羧基酯化得11-脱氧甘草次酸-30-乙酯（3）。再以四氢呋喃为溶剂,N,N＇-二环己基碳二亚胺（DCC）/4......

研究了保护氨基酸、Wang树脂取代度、树脂粒度、搅拌方式对Fmoc-氨基酸-Wang树脂连接效率的影响.结果表明,保护氨基酸分子量的大小......