铝刻蚀相关论文
研究了在高阻硅衬底上Al/ AlO／Al隧道结的制备技术,采用电子束蒸发制备Al/ AlOx/Al三层材料,湿法刻蚀制备底电极和上电极以及电路连......
讨论了刻蚀设备的本底真空度、腔室衬底温度对铝刻蚀速率、各向异性、选择性和光刻胶完整性等主要参数的影响。还了为队去残余物和......
液晶显示面板铝刻蚀废液采用常规法进行无害化处理不仅成本高,而且浪费资源。本文介绍了当前主流研究的铝刻蚀废液处理方法,并列举......
目前的半导体生产企业越来越多地用无油真空泵（干泵）来取代传统的旋片式真空泵（油泵），原因很简单，干泵的运行成本比油泵低得多，而且相对洁......
研究了在高阻硅衬底上Al／AlOx／Al隧道结的制备技术，采用电子束蒸发制备Al／AlOx／Al三层材料，湿法刻蚀制备底电极和上电极以及电路连线，PECV......
