分别研究以钛和铁为基体的Ｃｏ－Ｍｏ合金电镀，经测试证明Ｃｏ－Ｍｏ镀层结合力强，硬度高，耐腐蚀和耐热性能优良。阴极极化曲线指出，以钛为基体电镀Ｃｏ－Ｍｏ合金镀层......

化学机械抛光(CMP)已经被广泛的应用于大规模集成电路的制造中。在铜互连结构中,阻挡层能够抑制铜扩散到介质中去并且提高铜和介质......

开发一种持续可再生的能源及其制造与存储技术,是21世纪人类迫切需要解决的问题。氢能能量密度高,产物无污染,是能源领域的研究热......