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系统研究了硅各向异性腐蚀对偏压的依赖及重掺杂的影响,建立了液一半接触能带模型和界面电荷传递模型,提出了反应注入概念且指出腐......
研究了一种利用硅微结构直接作为模具制作微小固体染料激光器谐振腔.它采用了硅的深层反应离子刻蚀技术(deep-RIE)并结合硅的各向......
讨论了一种制作球面和非球面轮廓光学微结构的新方法。此方法的关键步骤是(100)硅在KOH:H2O中的两步各向异性腐蚀。首先在硅衬底的掩......
回顾和总结了国产电阻阵列3个发展阶段的主要技术方案、优缺点和最终结果。第一代64×64电阻阵列采用了体材料微机械加工的单晶硅......