液相外延系统相关论文
采用气相掺N,掺Zn过补偿液相外延工艺,以H为载气和保护气氛生长H为载气和保护气氛生长GaP:N时,当H中O和HO的含量过高时,外延片的光致发......
由信息产业部电子第48研究所承担的国家“863”计划新材料领域重点项目———M8611-1/UM型GaP液相外延系统(产品外观见照片)于今年4月14......
高精度、高稳定性、高降温速率的热场,是液相外延设备研制中的关键技术之一。介绍了热场的结构设计、炉温的控制及调试结果。......