光刻模型相关论文
建立了抗蚀剂表面曝光量分布与抗蚀剂内部PAC浓度分布之间的关系,通过分析抗蚀剂内部PAC浓度分布特 点,发现了抗蚀剂显影过程中的......
本文讨论了光刻模拟的有关模型,提出了一种适用于VLSI光刻工艺模拟的程序FUPLIS,给出了用FUPLIS对若干光刻工艺进行模拟的结果,模......
光学邻近校正（OPC）技术已经成为纳米级半导体工艺技术中的一个关键.目前在OPC中多边形的切分算法均基于配方（recipe）,但随着特征线宽减......
利用图像分析系统对大港油田孔南地区某断块孔店组一段扇三角洲储层不同岩相单元样品进行微观孔隙结构的刻画,制作光刻模型,分别采......
系统地介绍了裂缝介质中油-水两相运移光蚀刻物理模拟实验所采用的实验模型设计方法、应考虑的因素、模型几何参数确定、拓扑结构......
本文介绍一种研究两相流体驱替过程的光刻显微孔隙模型。模型由两片玻璃板制成,其中一片表面上刻有孔隙结构图案,另一片未经刻蚀并......
光刻在微制造过程中占据着举足轻重的地位,是在批量制造小尺寸半导体器件结构的关键瓶颈之一。半导体工艺工程师们需要尽可能准确......
提出了一种可对大矢高、非球面微透镜阵列面形进行精确控制的新方法。针对不同面形的微透镜阵列 ,该方法首先对光致抗蚀剂表面的曝......
通过环氧氯丙烷和二甲胺在过硫酸钾一亚硫酸钠引发体系引发下，在水溶液中按自由基和开环聚合同时进行的聚合方式合成了一种有机聚阳......
建立了光盘母盘刻录的光刻模型。该模型使用矢量衍射来计算聚焦光斑的光强分布，使用多层薄膜的光传导来描述光在光刻胶中的传播。给......
