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[会议论文] 作者:娜,方光荣, 来源:第十三届全国电子、离子、光子学术年会 年份:2005
本文简要介绍了材料表面改性用离子注入技术的机理和特点,综述了该技术在提高工件强度和硬度,改善磨损性能,降低摩擦系数等方面的用途,同时介绍了离子实现材料表面改性技术...
[会议论文] 作者:王迪平,伍三忠,孙雪平,孙勇, 来源:第十三届全国电子、离子、光子学术年会 年份:2005
本文对先扫描后加速系统的平行测量的原理进行了详细的推导,对平行度的具体测量方法进行了详细的介绍.并介绍了如何根据测量结果对平行透镜进行调整使之满足平行度指标...
[会议论文] 作者:孙雪平,孙勇,王迪平,伍三忠, 来源:第十三届全国电子、离子、光子学术年会 年份:2005
本文对先扫描后加速系统的平行测量的原理进行了详细的推导,对平行度的具体测量方法进行了详细的介绍.并介绍了如何根据测量结果对平行透镜进行调整使之满足平行度指标...
[期刊论文] 作者:章文卫,蒋薇,张开志,戴志勇,石金水,邓建军,丁伯南,, 来源:强激光与粒子 年份:2005
介绍了为抑制'神龙一号'加速器心螺旋运动而开展的强流电子心轨迹的调谐技术研究和实验结果.通过质心轨迹校正调谐,使'神龙一号'输出流脉冲50...
[会议论文] 作者:孙雪平,郭健辉,彭立波,唐景庭, 来源:第十三届全国电子、离子、光子学术年会 年份:2005
本文对各种平行产生的装置进行了简要的介绍.并对我们所采取的方案进行详细的描述,其中包括平行产生的机理、理论计算、边缘场效应的修正、磁铁的设计、线包设计以及平行透镜电源指标的确定...
[期刊论文] 作者:刘智民, 谢俊, 刘胜, 宋士花, 韩筱璞, 李, 胡纯栋, 来源:强激光与粒子 年份:2005
利用流截止板热量计原理,测量了诊断中性(DNB)注入托卡马克的流功率及流剖面分布.基于热量截止板上正交分布的13只K型热电偶探针测量出DNB引出流,在加速极电源49kV...
[期刊论文] 作者:刘智民,谢俊,刘胜,宋士花,韩筱璞,李,胡纯栋,胡立群,, 来源:强激光与粒子 年份:2005
利用流截止板热量计原理,测量了诊断中性(DNB)注入托卡马克的流功率及流剖面分布。基于热量截止板上正交分布的13只K型热电偶探针测量出DNB引出流,在加速极电源49...
[期刊论文] 作者:于程辉,汪林,魏源源, 来源:强激光与粒子 年份:2005
利用静电分离器对正负电子团在垂直方向上的相对轨道偏差进行了扫描,并用数字示波器对流轨道的变化进行监视,在北京正负电子对撞机(BEPC)上完成了垂直方向上的作用偏...
[会议论文] 作者:宋秀云,张彬庭, 来源:第十三届全国电子、离子、光子学术年会 年份:2005
简要介绍了聚焦离子技术的应用范围和作用,综述了真空系统在聚焦离子设备中的重要作用,聚焦离子设备真空系统的主要组成以及设备达到的真空度....
[会议论文] 作者:杨海方,金爱子,罗强,顾长志, 来源:第十三届全国电子、离子、光子学术年会 年份:2005
本文对正性电子抗蚀剂ZEP-520低能(0.5kev~2keV)电子曝光特性进行了系统的研究.利用180nm厚的ZEP-520抗蚀剂,研究了低能范围电子穿透深度及曝光特性与电子能量的关系.发...
[期刊论文] 作者:江孝国,邓建军,石金水,张开志,杨国君,王远,李成刚,李勤, 来源:强激光与粒子 年份:2005
高能强流电子参数测量是加速器研制过程中重要的一项测量工作,由于光学渡越辐射具有时间响应快、分辨率高等特点而被用于测量电子的具有时间分辨能力的剖面、发散...
[期刊论文] 作者:周雪梅,夏佳文,宋明涛,刘勇,杨建成,武霞,刘伟,冒立, 来源:强激光与粒子 年份:2005
介绍了由于磁铁的安装误差和螺线管的存在而造成的流径向和轴向的耦合,以及耦合对流稳定的影响。结合CSRm结构的典型参数分析得出:二极磁铁和四极磁铁在纵向角安装偏差为...
[会议论文] 作者:张彬庭,谭翔,王功荣,刘京威,宋秀云, 来源:第十三届全国电子、离子、光子学术年会 年份:2005
本文介绍了微细聚焦离子设备的系统概况,系统通过采用双透镜并行工作模式,双频激光测距工件台,离子扫描成像等技术,使系统满足实用化的要求....
[期刊论文] 作者:刘占,郑春阳,李斌,朱少平,曹莉华, 来源:强激光与粒子 年份:2005
用3维粒子模拟程序LARED-P研究了-等离子体不稳定性, 不稳定性激发的强电磁场使电子在非常短的距离内沉积能量.对于10 MeV的单能电子,电子数目占总电子数目5%的情况...
[期刊论文] 作者:文, 来源:今日科技 年份:2005
"久用心创造"--一句平实的广告语似乎完全说出了久人的心声."久"--一个寓意美好、叫声响亮的品牌中连接着久的过去、现在和将来,凝聚着久人的谋略、艰辛和荣耀,承...
[期刊论文] 作者:周雪梅, 夏佳文, 宋明涛, 刘勇, 杨建成, 武霞, 刘, 来源:强激光与粒子 年份:2005
介绍了由于磁铁的安装误差和螺线管的存在而造成的流径向和轴向的耦合,以及耦合对流稳定的影响.结合CSRm结构的典型参数分析得出:二极磁铁和四极磁铁在纵向角安装偏差为-...
[会议论文] 作者:彭力, 来源:第十三届全国电子、离子、光子学术年会 年份:2005
微电子技术正向深亚微米、纳米方向发展.而电子掩模制造技光设备由于波长短,位置控制精度高,而具备制作精确图形的优势.电子的工作方式有两种:光栅扫描和矢量扫描.矢量扫描电子,ZBA-23H电子由电子光学柱...、激光工件台等组成.工艺:电子胶及有机溶剂的显影、腐蚀等.发展方向:在0.13以上,由于激光波长原因.再小的尺寸只能由电子或与其它设备共同来制作.还得采取特殊OPC、相移技术,化学放大胶等...
[会议论文] 作者:段小楠, 来源:第十三届全国电子、离子、光子学术年会 年份:2005
电子抗蚀剂是微细加工工艺中极具发展潜力的一种抗蚀剂.本文介绍了在微细加工工艺中应用电子抗蚀剂在光掩模制造中的关键步骤及目前常用的几种电子抗蚀剂,分析了电子抗蚀剂的特性及其应用于光掩模加工工艺中应注意的问题...
[期刊论文] 作者:可以, 来源:河池学院学报 年份:2005
主题:可以小说创作时间:2004年11月24日地点:广西师范大学中文系基地楼文艺学教研室主持人:黄伟林教授、刘铁群副教授主讲人:可以对话者:中文系现当代文学专业硕士研究生...
[会议论文] 作者:全保刚;杨海方;李海钧;顾长志;, 来源:第十三届全国电子、离子、光子学术年会 年份:2005
本文探索了以电子直写曝光方法制备高质量纳米点阵列的最优化工艺及金属纳米点阵列的应用.通过电子直写系统对涂有PMMA胶、PMMA/MMA双层胶和PMMA/LOR双层胶的硅基片进行...
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