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[会议论文] 作者：樊中朝,余金中,陈少武,严清峰,王良臣,
来源：第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会 年份：2003
刻蚀是微器件制作中的关键技术之一,刻蚀结果会直接影响器件的性能.ICP(Inductively Coupled Plasma)刻蚀技术具有刻速快、各向异性高、刻蚀损伤小、大面积均匀性好等优点,已...
[期刊论文] 作者：高俊华,白云霞,姜磊,马朝华,朱家廉,王良臣,余金中,王启明,
来源：半导体学报 年份：2003
利用表面微机械技术，成功制作了1．3μm Si基MOEMS可调谐光滤波器。原型器件在50V的调谐电压下，调谐范围为90nm。该技术可以用于制作1．3μm Si基可调谐光探测器。...
[期刊论文] 作者：左玉华,毛容伟,黄昌俊,蔡晓,李传波,成步文,罗丽萍,高俊华,白云霞,姜磊,马朝华,王良臣,余金中,王启明,
来源：光子学报 年份：2003
用传输矩阵方法 ,在简化的光学模型基础上 ,分别讨论了分布式Bragg反射镜DBR(DistributedBraggReflector)的生长精度及镜面起伏对 1.5 5 μmSi基MEMS (Micro Electro Mechani...
[期刊论文] 作者：左玉华,蔡晓,毛容伟,黄昌俊,成步文,李传波,罗丽萍,高俊华,白云霞,姜磊,马朝华,王良臣,余金中,王启明,
来源：半导体学报 年份：2003
介绍了一种Si基热光Fabry Perot (F P)腔可调谐滤波器 .F P腔由电子束蒸发的非晶硅构成 .利用非晶硅的热光效应 ,通过对Si腔加热 ,改变F P腔的折射率 ,从而引起透射峰位的红...
[期刊论文] 作者：左玉华,黄昌俊,成步文,蔡晓,毛容伟,李传波,罗丽萍,高俊华,白云霞,姜磊,马朝华,朱家廉,王良臣,余金中,王启明,
来源：Chinese Optics Letters 年份：2003
A prototype 1.55-μm Si-based micro-opto-electro-mechanical-systems (MOEMS) tunable filter is fabricated, employing surface micromachining technology. Full-wid...
[期刊论文] 作者：左玉华,黄昌俊,成步文,蔡晓,毛容伟,李传波,罗丽萍,高俊华,白云霞,姜磊,马朝华,朱家廉,王良臣,余金中,王启明,
来源：半导体学报 年份：2003
利用表面微机械技术 ,成功制作了 1.3μm Si基 MOEMS可调谐光滤波器 .原型器件在 5 0 V的调谐电压下 ,调谐范围为 90 nm.该技术可以用于制作 1.3μm Si基可调谐光探测器 .A...
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