溅射功率对NdFeB薄膜形貌的影响

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采用直流磁控溅射方法在玻璃基片上制备出厚度约400 nm的NdFeB薄膜,使用不同的溅射功率,利用扫描电镜分析不同溅射功率对薄膜微观组织的影响,并采用真空退火使之晶化,使用XRD衍射仪、扫描电镜分析晶化情况及组织变化,以期得到最佳的制备工艺。通过对30,50,100 W三组样品进行对比,得出以下结论:在30 W功率下溅射,得到的样品具有最为均匀平整的组织形貌;随着溅射功率的加大,在试样非晶基体上,会出现弥散分布的富Fe相;而且随功率的增大,组织变得疏松,使得退火后仍难以得到较为良好的晶态组织。通过对100
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