两个多核四硫代富瓦烯类衍生物的合成和电化学行为

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合成了2个含3个四硫代富瓦烯单元的化合物,给出了它们的核磁共振氢谱、质谱、紫外吸收光谱及元素分析数据。用循环伏安法测定了它们的氧化还原电位,并将其与仅含1个或2个四硫代富瓦烯单元的化合物的氧化还原电位比较。发现随着分子内共轭程度的增加,分子内的库仑斥力也随之降低。
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