磁控溅射法制备CNx薄膜及其结构表征

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以Ar/N2混合气体作为溅射气体,利用直流磁控溅射的方法制备了碳氮薄膜。利用X射线衍射和红外光谱对碳氮薄膜进行了结构分析。IR光谱证实了薄膜中碳氮化合物的形成,而XRD的检测结果表明,类石墨相rC3M是碳氮薄膜中的主要成分,同时有极少量的β-C3N4晶相生成。同时发现,Ar/N2溅射气体的分压对获取β-C3N4有着明显的影响。本实验中,当N2体积分数为33%,碳氮薄膜中β-C3N4晶相的含量最高。
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