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研究了络合剂加量,镀液pH、温度等因素对非晶态Ni-W合金镀层电沉积的影响,同时对非晶态镀层结构,结合力和耐蚀性也作了探讨。结果表明,各因素对电沉积都有不同程度的影响,其中氨基络合物加量为0.74 ̄1.11mol/L时,合金镀层稳定,W含量大于44%的合金镀层为非晶态。有优异的耐蚀性,并且在不同材质上具有良好的结合力。