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利用XRD、H2-TPR和孔结构的分析对C4馏分加氢催化剂Ni／Al2O2-SiO2进行了表征，在固定床反应器内对催化剂的活性进行了评价，并对加氢机理进行了讨论。结果表明，在Ni／Al2O3-SiO2催化剂表面至少存在两种活性中心，分别由体相NiO和高度分散的NiO还原产生。研制的催化剂对C4馏分加氢具有很高的活性和良好的稳定性，进口温度18．6屯时就可进行加氢，属于低温型加氢催化剂。在C4单烯烃质量分数为74．85％、加氢压力为2．0MPa～2．7MPa、液时空速为1．0h^-1～2．0h^-1、氢油体