用于高速电路的InP基共振隧穿二极管制作

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:song656334704
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在InP衬底上采用感应耦合等离子体刻蚀技术制备了高性能的AlAs/In0.53Ga0.47As/InAs共振隧穿二极管.正向偏压下PVCR=7.57,Jp=39.08kA/cm^2;反向偏压下PVCR=7.93,Jp=34.56kA/cm^2.在未去除测试电极和引线等寄生参数影响下,面积为5μm×5μm的RTD的阻性截止频率为18.75GHz.最后对非对称的I-V特性进行了分析讨论.
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