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本文论述了在高真空条件下(P【2×10<sup>-3</sup>Pa)制备的电介质膜、高反射金属膜、吸收材料的半透明膜.讨论了产生高透射率电介质膜和反射率金属膜的某些重要因素.
在高真空条件下镀制的光学膜
【摘 要】
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本文论述了在高真空条件下(P【2×10<sup>-3</sup>Pa)制备的电介质膜、高反射金属膜、吸收材料的半透明膜.讨论了产生高透射率电介质膜和反射率金属膜的某些重要因素.
【机 构】
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四平师范学院
【出 处】
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松辽学刊(自然科学版)
【发表日期】
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1991年3期
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