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为了解决新型优质光学材料一反应烧结碳化硅（RB-SiC）由SiC和Si两相结构引起的光学表面缺陷问题，提出了反射镜表面改性方案并且从加工工艺的角度介绍了改性工艺流程。以空间反射镜的使用环境为依据，对几种适用的RB—SiC改性材料进行了较为全面的分析比较。本文采用新的离子辅助沉积碳化硅（IAD—SiC）材料为改性层，对改性层的表面形貌及部分性能进行了测试，证明IAD，SiC膜层能够满足改性要求。在厚度为（6±0．5）μm的IAD—SiC膜层表面进行了一系列抛光217-艺实验，文中给出了超光滑表面抛