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为了改善旋涂法制备纳米级超薄PVDF铁电薄膜的致密性和连续性,研究基体的表面处理对PVDF成膜性的影响,进行了对基体表面处理、改变PVDF溶剂成分、旋涂后的退火温度等对超薄PVDF铁电薄膜的连续性、表面形貌及其成分结构的影响研究。研究对硅和玻璃基底表面处理,紫外（UV）和氧等离子体辐照,改变基底的表面能后PVDF在基底上铺展特性。薄膜的表面形貌通过KEYENCE VHX-600超景深三维视频显微镜、扫描电子显微镜（SEM）和原子力显微镜（AFM）观察,采用傅里叶变换红外光谱（FTIR）和X射线衍射（XRD