影响NiCr薄膜电阻器TCR与长期稳定性的主要因素

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引言利用真空淀积技术制作金属膜电阻器已有三十年历史。三十年来,尽管作了大量的研究与探索,但至今广泛用来制作精密薄膜电阻器的材料,仍然只有二种:NiCr和Ta基。NiCr膜可以得到很低的温度系数(TCR),Ta基膜的稳定性(△R/R)很好。目前,在精密薄膜电阻制作上,美、日以Ta基为主,西欧则广泛应用NiCr材料。国内很多单位用NiCr薄膜作电阻器网络,而 Introduction The use of vacuum deposition technology for metal film resistors has been 30 years old. For thirty years, despite extensive research and exploration, there are still only two materials widely used to manufacture precision thin film resistors today: NiCr and Ta. NiCr film can get very low temperature coefficient (TCR), Ta base film stability (△ R / R) is very good. At present, the production of precision thin film resistors, the United States and Japan to Ta-based, Western Europe is widely used NiCr material. Many domestic units with NiCr film for resistor networks, and
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