薄膜厚度测量系统

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薄膜厚度测量是VLSI生产工艺中不可缺少的重要工序,也是保证产品质量提高生产效率的重要手段。采用显微镜-全息凹面光栅-CCD-微机处理的测量系统具有结构简单工作可靠的特点。本文介绍了其原理与特点,并对该系统进行了实验,实验结果表明,对于较薄的膜层测量精度为±2nm,对于一般膜层为被测膜层厚度的±2%-±5%。
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