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期刊论文
等离子体刻蚀的数学模型
等离子体刻蚀的数学模型
来源 :真空科学与技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zhanfeifan
【摘 要】
:
介绍了等离子体刻蚀中的三种主要的数学模型,即:物理模型、反应表面模型、神经网络模型。简要地叙述了它们的原理和优缺点。
【作 者】
:
黄光周
周亮笛
【机 构】
:
华南理工大学电子与通信工程系
【出 处】
:
真空科学与技术
【发表日期】
:
2000年6期
【关键词】
:
数学模型
等离子体刻蚀
物理模型
集成电路制造
Mathematical model
Plasma etching
Physical model
Respons
【基金项目】
:
西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室,国家自然科学基金! (6 97710 15 )
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介绍了等离子体刻蚀中的三种主要的数学模型,即:物理模型、反应表面模型、神经网络模型。简要地叙述了它们的原理和优缺点。
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