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金刚石的同质外延掺硼和Schottky特性
金刚石的同质外延掺硼和Schottky特性
来源 :材料研究学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:mad1979
【摘 要】
:
在<100>取向的金刚石衬底上,用微波PCVD法进行同质外延,掺杂和Schotty特性的实验研究,总结了反应气体,碳源浓度等因素对外延层形貌、结构的影响,B/C比对掺硼外延层结构、形貌和电学性能的影响,以及接触
【作 者】
:
沈荷生
张志明
【机 构】
:
上海交通大学
【出 处】
:
材料研究学报
【发表日期】
:
1995年2期
【关键词】
:
金刚石
薄膜
同质外延
硼掺杂
肖特基特性
diamond film
homoepitaxy
B-doping
Schottky characterist
【基金项目】
:
国家自然科学基金,国家高技术项目
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在<100>取向的金刚石衬底上,用微波PCVD法进行同质外延,掺杂和Schotty特性的实验研究,总结了反应气体,碳源浓度等因素对外延层形貌、结构的影响,B/C比对掺硼外延层结构、形貌和电学性能的影响,以及接触金属,温度对Schottky特性的影响。
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