MOS结构热激电流谱的测量与分析

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本文用热激电流法测量了MOS结构在77K~600K温度范围的热激电流谱。热激流谱从低温到高温给出了SiO_2-Si界面的界面态、Si表面体深能级、SiO_2中的可动离子——H~+、Na~+、K~+等的电流峰、由谱线计算了界面态分布曲线、体深能级位置,可动离子的激活能及其浓度等参量,分析了高温热激电流谱的性质;提出了识别界面态与体深能级电流峰的方法。 In this paper, the thermal shock current spectrum of MOS structure in the temperature range of 77K ~ 600K was measured by the heat shock method. The heat shock spectrum shows the interface states of SiO_2-Si interface, the deep surface of Si surface and the current peaks of mobile ions such as H ~ +, Na ~ + and K ~ + in SiO_2 from low temperature to high temperature. The spectral distribution curves of interface states, the position of deep and deep energy levels, the activation energies of mobile ions and their concentrations were calculated. The properties of HTS current profiles were analyzed. method.
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