【摘 要】
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采用厚度为80μm的镍中间层实现了Si3N4陶瓷和TiAl合金的扩散连接．采用扫描电镜（SEM），能谱检测（EDS）等分析方法确定了TiAl／Ni／Si3N4扩散焊接头的典型界面结构为TiAl／A15Ni2Ti3／A1Ni2Ti／N
【机 构】
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哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室,黑龙江工程学院材料与化学工程系
【基金项目】
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黑龙江省杰出青年基金资助项目（2004793）,国家自然科学基金资助项目（50805038）
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采用厚度为80μm的镍中间层实现了Si3N4陶瓷和TiAl合金的扩散连接．采用扫描电镜（SEM），能谱检测（EDS）等分析方法确定了TiAl／Ni／Si3N4扩散焊接头的典型界面结构为TiAl／A15Ni2Ti3／A1Ni2Ti／Ni3（Ti，AI）／Ni（s,s）＋Ni3Si／Si3N4．重点分析了连接温度对接头界面结构及力学性能的影响规律．结果表明，随着温度的升高，TiAI／Ni界面处元素互扩散速率逐渐加快，导致各化合物层厚度增加．同时，Si3N4与镍的反应加快致使在Si3N4／Ni界面处出现孔洞；连
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