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磁性Fe3Si薄膜具有高饱和磁化强度、高磁导率、高自旋极化率等优越性，在巨磁阻方面和自旋电子器件中有着广泛应用前景。本文介绍了目前关于Fe3Si薄膜制备的几种主要方法……分子束外延法、脉冲激光沉积法、离子柬合成法、射频溅射法等。通过对国内外Fe3Si薄膜发展现状的研究，分析了Fe3Si薄膜的结构、性能及应用。