【摘 要】
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利用电子束蒸镀方法在单晶硅和石英玻璃上制备了掺不同Y2O3浓度的掺钇稳定ZrO2薄膜（YSZ）,用X射线衍射、原子力显微镜、扫描电子显微镜和透射光谱测定薄膜的结构、表面特性和光
【机 构】
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中国科学院理化技术研究所,北京印刷学院等离子体实验室,北京石油化工学院材料科学与工程系,中国一航北京长城测量技术研究所
【基金项目】
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北京市教委科技面上发展项目（KM200710015002）,航空科学基金项目（2008ZD44007）
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利用电子束蒸镀方法在单晶硅和石英玻璃上制备了掺不同Y2O3浓度的掺钇稳定ZrO2薄膜（YSZ）,用X射线衍射、原子力显微镜、扫描电子显微镜和透射光谱测定薄膜的结构、表面特性和光学性能,研究了退火对薄膜结构和光学性能的影响。结果表明：一定浓度的Y2O3掺杂可以使ZrO2薄膜稳定在四方相,退火显著影响薄膜结构,随着温度的升高薄膜结构依次经历由非晶到四方相再到四方和单斜混合相转变;AFM分析显示薄膜表面YSZ颗粒随着退火温度的升高逐渐增大,表面粗糙度相应增大,晶粒大小计算表明,退火温度的提高有助于薄膜的结晶化,
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