厚薄膜测量

来源 :激光与光电子学进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户:knik120
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为透明和半透明材料、厚薄膜测量设计的薄膜厚度测量装置性能好于类似的 CCD系统。光谱国际公司的薄膜厚度测量装置能测量比类似 CCD传感器薄的膜。薄膜厚度分辨率为 2 nm,重复性在± 1%或 0 .4 nm,可在现场单独应用。此装置可用于计算吸收和非吸收材料的折射率 ,可进行多个薄 Thin-film thickness measurement devices designed for transparent and translucent materials perform better than comparable CCD systems. Spectra International’s thin film thickness gauges measure thinner films than similar CCD sensors. Film thickness resolution of 2 nm, repeatability ± 1% or 0 .4 nm, can be used alone in the field. This device can be used to calculate the refractive index of absorbent and non-absorbent materials, allowing multiple thinning
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