【摘 要】
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为了改善薄膜太阳电池表面抗反射特性,提高其对光的吸收率,在玻璃基体上制备了一种新的微纳抗反射结构,即微半球孔阵列,其周期约为10 μm、深度约5μm.测试了微半球孔阵列结
【机 构】
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上海交通大学 电子信息与电气工程学院微米纳米加工技术国家级重点实验室,上海200240;上海交通大学 电子信息与电气工程学院薄膜与微细技术教育部重点实验室,上海200240
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为了改善薄膜太阳电池表面抗反射特性,提高其对光的吸收率,在玻璃基体上制备了一种新的微纳抗反射结构,即微半球孔阵列,其周期约为10 μm、深度约5μm.测试了微半球孔阵列结构的光学特性,得到这种结构的平均反射率约为1.7％,同平板无结构的玻璃相比,平均反射率降低了约6％.由测试结果可知,微半球孔阵列结构的抗反射性能得到改善,增强了薄膜太阳电池对光的捕获能力.采用紫外光刻、离子束刻蚀与湿法刻蚀相结合的工艺,整个制备工艺较简单,成本低廉,可以实现大面积应用.
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