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采用碳离子束注入辅助蒸发技术低温沉积了DLC薄膜,对薄膜沉积的工艺参数进行了优化,并对该薄膜的摩擦学行为进行了探讨。研究发现：碳离子束注入辅助蒸发技术沉积的DLC薄膜在离子量为3.0×1017ions/cm^2,沉积率为0.1nm/s时具有最小的摩擦因数（〈0.1）;电流为2.0mA比3.0mA条件下所沉积的DLC薄膜表面光滑;磨损试验后,DLC薄膜的表面只有轻微磨损的痕迹。