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通过计算得出了蒸发源位于倒圆锥面正下方外部镀膜时锥面上各点的膜厚方程，并对整个锥面上膜厚均匀性进行了理论分析。结果表明：当圆锥面形状固定时，蒸发源与圆锥底圆圆心距离增大使锥面上膜厚均匀性变好；当蒸发源固定时，增大底圆半径导致锥面上膜厚均匀性变差。在同样的配置下，蒸发源为点源或小平面源时锥面上膜厚均匀性的变化趋势一致，小平面源蒸镀比点源蒸镀时圆锥面上膜厚均匀性差。