高Pr/低Pr栅FFET漏极电流与铁电材料特性的关系

来源 :微纳电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：hedanjiaotong

【摘要】

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分析了对铁电场效应晶体管漏极电流特性有影响的铁电材料参数,设计了具有单层和双层栅介质结构的铁电场效应晶体管,并进行了仿真研究.仿真结果表明:具有高Pr/低Pr栅介质结构

【作者】

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顾江施敏王强蔡小鹏

【机构】

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常熟理工学院,物理电子系,江苏,常熟,200041;南通大学电子信息学院,江苏,南通,226019;南通大学计算机科学与技术学院,江苏,南通,226019

【出处】

：

微纳电子技术

【发表日期】

：

2004年期

【关键词】

：

铁电场效应晶体管(FFET) 双层栅铁电材料漏极电流极化仿真

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分析了对铁电场效应晶体管漏极电流特性有影响的铁电材料参数,设计了具有单层和双层栅介质结构的铁电场效应晶体管,并进行了仿真研究.仿真结果表明:具有高Pr/低Pr栅介质结构的铁电场效应晶体管在饱和极化后,其极化前后输出漏极电流差最大,有利于存储信号的分辨,提高电路的效率.通过改变该结构中低Pr层的Pr,Ec等铁电材料参数,发现在3～4 V间饱和极化,该结构的铁电场效应晶体管的漏极电流输出特性比较稳定,减小了对材料、工艺、P5/Pr及Ec的依赖性和敏感性,具有易于制造和便于电路设计的优点.

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