聚焦离子束光学系统中高压电源稳定度对获得亚微米束斑影响的研究

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介绍了应用于亚微米微细加工的2级透镜聚焦离子束系统,从象差和散焦的角度利用理论分析和模拟计算,研究了决定光学系统性能的离子源、离子引出极、预聚焦极、聚焦极等高压电源的稳定度对离子束径的影响,得到了束径小于0.2μm时电源必须达到的稳定度(纹波系数小于10-5),最后提及了所研制的高稳定度高压电源。 In this paper, the 2-level lens focused ion beam system applied to sub-micron micro-fabrication is introduced. From the perspective of aberration and defocusing, the theoretical analysis and simulation calculation are used to study the performance of ion source, ion extraction electrode, The influence of the stability of the high-voltage power source such as the focusing pole and the like on the ion beam diameter is obtained. The stability of the power source (the ripple factor is less than 10-5) when the beam diameter is less than 0.2μm is obtained. Finally, the developed high stability High-voltage power supply.
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