适用于神经接口的硅基微电极制作

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采用表面MEMS工艺制作了二维多通道的硅基微电极阵列,用于提取脑神经电信号.在整个工艺制作过程中需要三步光刻,制作的硅针长1.2mm,宽100μm,厚30μm,同时各个记录点的间距为200μm,可以形成良好的信号隔离.对微电极的阻抗特性进行了体外测试,结果表明,随着频率由0变为10MHz,单个记录点阻抗由14MΩ下降到1.9kΩ.将微电极黏附到印刷线路板,通过金丝压焊提取各个通道信号,大大提高了植入的可操作性以及信号提取的可靠性.
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