用白光快速烧结制作离子注入层欧姆接触

来源 :北京师范大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：CBN_cntjlz

【摘要】

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研究了用白光快速烧结法制作的n型高浓度离子注入层欧姆接触的特性.选用硅和硫离子,获10~(18)cm~(-3)以上的高浓度.白光快速烧结温度为400～460℃.实测的比接触电阻的最好值达

【作者】

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李晓明姬成周韩德俊魏东平李国辉

【机构】

：

北京师范大学低能核物理研究所

【出处】

：

北京师范大学学报(自然科学版)

【发表日期】

：

1992年4期

【关键词】

：

离子注入欧姆结触快速退火 ion implantation ohmic contact rapid thermal annoaling

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研究了用白光快速烧结法制作的n型高浓度离子注入层欧姆接触的特性.选用硅和硫离子,获10~(18)cm~(-3)以上的高浓度.白光快速烧结温度为400～460℃.实测的比接触电阻的最好值达到10~(-6)·Ω·cm~2.该法已用于全离子注入平面型场效应晶体管和GaAs/GaAlAs异质结HOT晶体管,性能良好.

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