【摘 要】
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利用射频磁控溅射技术在载玻片衬底上沉积了TiO2及Fe3+掺杂的TiO2薄膜,并利用X射线衍射、拉曼光谱和紫外-分光光度计对所制备的薄膜进行了结构与性能表征。结果表明,所制备的
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利用射频磁控溅射技术在载玻片衬底上沉积了TiO2及Fe3+掺杂的TiO2薄膜,并利用X射线衍射、拉曼光谱和紫外-分光光度计对所制备的薄膜进行了结构与性能表征。结果表明,所制备的TiO2薄膜为锐钛矿相结构,Fe3+掺杂后TiO2薄膜的晶化程度降低,光催化活性减弱。
TiO2 and Fe3 + -doped TiO2 films were deposited on glass substrate by RF magnetron sputtering. The structure and properties of the prepared films were characterized by X-ray diffraction, Raman spectroscopy and UV-spectrophotometer Characterization. The results show that the prepared TiO2 film is anatase phase, the degree of crystallization of TiO2 film is decreased and the photocatalytic activity is weakened after Fe3 + doping.
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