ONO反熔丝结构的电离辐照性能研究

来源 :核电子学与探测技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:suan11111
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描述了ONO反熔丝的物理结构,采用ONO薄膜传导模型分析了ONO反熔丝结构在受到电离辐照时,其内部电子一空穴的运动规律。分别对ONO反熔丝FPGAA1460A和A40MX04进行了电离辐照实验,测试了电流与辐照剂量的关系以及FPGA功能失效阈值。理论分析和实验数据说明了该结构比单层SiO2具有更好的抗电离辐照性能。
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