等离子体合成射流是一种快速、宽频的气动激励方式,由于激励强度高、射流速度大,在超音速流动控制方面具有广阔的应用前景。等离子体合成射流气动激励特性的研究将为揭示等离子体合成射流的产生和演化机制提供必要的基础。为此,研究ns脉冲等离子体合成射流气动激励特性,在常规大气环境进行了发射光谱测试,通过对380.5nm附近的谱线进行拟合得到N2(C3Πu)的转动温度,利用氮分子二正系列的371.1nm和380.5nm两条谱线强度之比计算了振动温度。将腔体内的激励简化为定容加热的过程,理论计算了射流的喷射压力和喷射速度;建立了ns脉冲等离子体合成射流的仿真模型,计算了射流速度随时间的演化特性,结果表明,t=20μs时射流速度最大,达到了206m/s,t=70μs时气流开始回流到腔体中进入下一个循环。证明等离子体合成射流可产生快速的,高强度的气动激励。