【摘 要】
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用SiH2Cl2、N20和NH3混合气体、借低压化学汽相淀积（LPCVD）工艺在820℃下生长了氮氧化硅膜。整个膜的组成可通过调节N2O/NH3气体流量比来加以改变。淀积膜的卢瑟福背散射（RBS）及
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用SiH2Cl2、N20和NH3混合气体、借低压化学汽相淀积（LPCVD）工艺在820℃下生长了氮氧化硅膜。整个膜的组成可通过调节N2O/NH3气体流量比来加以改变。淀积膜的卢瑟福背散射（RBS）及俄歇分析指出,整个膜的组成是均匀的,与衬底性质无关。这些氮氧化物膜的厚度和组成很容易用椭圆对称法进行测量;而其氧/氮比可从折射率值中准确地导出。据推断,在原子尺度范围内,LPCVD氮氧化物是均匀的,也就是,硅原子受到氧原子和氮原子的随机包围。因此,这种氮氧化物不是想象中的氧化硅和氮化硅的两相物理混合物。就温度-偏压应力状态下平带电压的漂移而言,发现氮氧化物膜在金属-氮氧化物-氧化物-硅结构中的稳定性随着氧含量的增加而改善。
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