离子注入与沉积TiN膜层中的残余应力

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【摘要】

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利用掠入射X射线衍射(GIAXRD)研究了GCr15轴承钢表面等离子体浸没离子注入与沉积(PⅢ＆D)氮化钛(TiN)薄膜后膜层表面的应力状态.用X射线衍射(XRD)分析了处理后膜层的化学组成.

【作者】

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刘洪喜 JIANG Ye-hua 周荣 LENG Chong-yan 汤宝寅

【机构】

：

昆明理工大学机电工程学院材料成形与控制系,云南,昆明,650093哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室,黑龙江,哈尔滨,150001;

【出处】

：

材料热处理学报

【发表日期】

：

2008年4期

【关键词】

：

等离子体浸没离子注入与沉积(PⅢ＆D) 掠入射X射线衍射(GIAXRD) TiN薄膜残余应力 GCr15钢

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利用掠入射X射线衍射(GIAXRD)研究了GCr15轴承钢表面等离子体浸没离子注入与沉积(PⅢ＆D)氮化钛(TiN)薄膜后膜层表面的应力状态.用X射线衍射(XRD)分析了处理后膜层的化学组成.探讨了薄膜厚度和掠入射角对表面膜层中应力变化规律的影响.结果表明,表面膜层中主要存在TiN相,同时含有少量的TiO2和钛氮氧的化合物.不同工艺下,TiN/GCr15轴承钢试样表面膜层中存在的应力均为压应力;且应力值随着掠入射角度的增大而减小,随着薄膜厚度的增加而降低.

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