论文部分内容阅读
提出了一种无氰电沉积光亮铜锡合金的新工艺,其溶液组成及操作条件为:Na3C6H5O.2H2O90-120,Na2EDTA.2H2O25-35,稳定剂WDZ-94310-15?CuSO4.5H2O20-40,SnCl2.2H2O20-40g.L^-1;溶液的pH=5-6,Dk=10-150A.m^-2,T=50-60℃,在上述条件下可获得含锡量为5%-15%的光亮、细致、均匀的铜锡合金沉积层。