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中国科学院光电技术研究所顺利完成新一代单场超大面积光刻机（650mm×650mm）研制,并通过了用户验收,各项技术指标达到国际先进水平。其成功研制对于提升我国微细加工设备整体研制水平,促进我国单场超大面积极端微细加工技术发展具有重要的意义。新一代超大面积光刻机采用2500W大功率高压汞灯作为光源,利用离轴非球面反射镜,