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本文提出了应变Si1-xGex价带结构的等价有效简并度模型,借助这个模型,计算了赝晶生长在〈100《Si衬底上的p型Si1-xGex应变层的重掺杂禁带窄变,发现当杂质浓度超过约2-3×10^19cm^-3后,它在某一Ge组分下得到极大值,而当掺杂低于此深度时,它则随Ge组分的增加单调下降。