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锑化铟是一种窄禁带化合物半导体。近几年,它作为3～5μm红外探测器阵列的一种材料受到广泛的重视。为了制备高质量的锑化铟PN结光电二极管,铍注入与快速热退火(RTA)技术相结合是一种最佳的选择。本文借助俄歇电子能谱(AES)对在快速退火条件下锑化铟表层化学配比的偏离进行了系统的研究。
快速热退火对锑化铟表层化学配比的影响
【摘 要】
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锑化铟是一种窄禁带化合物半导体。近几年,它作为3～5μm红外探测器阵列的一种材料受到广泛的重视。为了制备高质量的锑化铟PN结光电二极管,铍注入与快速热退火(RTA)技术相结合
【机 构】
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西安电子科技大学微电子所,西安电子科技大学微电子所710071,710071
【出 处】
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微细加工技术
【发表日期】
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1991年2期
【基金项目】
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中国科学院上海冶金所离子束开放实验研究室的资助
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